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在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。

设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。

离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。

一、PVD膜层抵抗力

耐腐蚀，PVD电镀加工厂，抗酸且化学性能稳定，在常规环境下，户内或者户外，都具有不褪色，不失去光泽并不留下痕迹的性能。正常情况的使用下不会破损，不褪色并且容易清除油漆和笔迹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不变色，PVD电镀价格，不氧化，不脱落和爆裂，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，富有金属光泽。耐磨程度高，耐刮擦，不易划伤，可电镀材料广泛，与基体结合力强。

二、环保

真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害，绿色环保。

三、适用性

PVD真空镀膜可镀IPG浅金、IP金色、IP炉内玫瑰金、IP咖啡色、IP铬、IP***、棕色、IP黑、枪色等。

电镀工艺有锐边变厚的现象。电镀中的锐边会引起凸起部分放电，形成边角镀层隆起。因此应尽量采用圆角过渡，圆角半径至少0.3 mm以上

东莞真空电镀厂在平板形塑件电镀时操作比较困难，镀件的中心部分镀层薄，PVD电镀，越靠边际镀层越厚，整个镀层呈不均匀状况，应将平面形改为略带圆弧面或用桔皮纹制成亚光面。电镀的外表积越大，中心部位与边际的光泽差别也越大，略带抛物面能改善镀面光泽的均匀性。

塑件上尽量削减凹槽和杰出部位。因为在电镀时深凹部位易露塑，而杰出部位易镀焦。凹槽深度不宜超越槽宽的1/3，PVD电镀工厂，底部应呈圆弧。有格栅时，孔宽应等于梁宽，并小于厚度的1/2。