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发布时间:2020-07-07 12:58:49
真空溅镀主要利用辉光防电将亚气AR离子撞击靶材表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来得好,但是镀膜速度却比蒸镀慢的多。新型的溅镀设备几乎都是用磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围亚气离子化,造成靶与亚气离子间的撞击几率增加,提高溅镀速率.
特性:采用不锈钢、纯钛、特佛龙等换热器直接加热槽液,自动控温,无换热温差,温度平均。电镀前处置高温局部加热节能50%左右,电镀后处置镀镍、碱铜加热节能等节约70%左右。
一、前处理要做好,基体处理得越干净,基体进行金属的原子系统能够得到充分利用露出来是后续镀层技术能够可以很好附着上去的关键。
二,电镀时注意镀层金属与基体金属的匹配..
第三,要注意对于不同的覆盖涂层之间不同镀层匹配该金属电镀厂,涂层前应进行清洁,如果必要的话,以一个弱蚀刻以去除电镀层上的氧化膜。
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