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关于真空镀膜设备大家都了解多少呢？今天小编着重就真空镀膜设备的使用步骤、适用范围以及维护和***方法等做以下介绍，希望对小伙伴们有用！

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

现在有一种涂层技术已逐渐应用到手表上，工艺上讲为PaCVD,属于CVD的一种。这种技术先是应用到F1方程式车上，因为这种涂层更注重外观色泽，也叫装饰涂层。因高温会使手表变形，所以它的氧化温度只有摄氏300度，但它的硬度非常高，达到4000（维氏硬度），非常耐磨。

相对PVD工艺，PaCVD工艺应用深镀电源，无需阴极靶材，同时工件在炉膛中无需旋转，该工艺为干净、无污染、可靠和多性能的涂层工艺。并且DLC涂层非常坚硬耐磨，可以说是长时间的不变色，而且颜色也非常好看，非常符合现代的审美观。

在平板显示器中：所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且，几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说，没有薄膜技术，就没有平板显示器件。

在太阳能利用方面：当需要有效地利用太阳热能时，就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异，因此，为了有效地利用太阳热能，就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。理想的选择吸收面，是太阳辐射光谱的波段（可见光波段）吸收率（α）为1，在热辐射波段（红外波段）辐射率（ε）为0。